一、气氛真空实验炉概述
气氛真空实验炉使用硅碳棒为加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
二、气氛真空实验炉特点
1、炉膛采用陶瓷纤维材料，密度小，重量轻，热熔小，保温效果好。
2、升温速度快，温度的均匀性好，一般为15-20分钟可升到1000℃、1300℃。
3、控制器采用PID控制，可编程30段，具有超温报警功能、温度补偿和温度校正功能。
4、我们采用陶瓷纤维做炉膛材料，陶瓷纤维每公斤单价从几百元到1600元/公斤，普通的耐火砖，仅有几元/公斤。
5、控温仪表具有密码功能，设定参数密码控制。
6、显示视窗：测量温度，设定温度双显示，加热功率光柱显示。
7、快装法兰使用方便，配标准真空备件，真空泵，气氛备件。
三、气氛真空实验炉参数
设备型号
JW-8-13
JW-10-13
JW-12-13
JW-12-13
JW-15-13
最高温度
1360℃
1360℃
1360℃
1360℃
1360℃
控制精度
±1℃
±1℃
±1℃
±1℃
±1℃
炉膛尺寸（mm）
(W×H×L)
200*200*500
300*300*630
300*300*1260
300*300*1470
300*300*1680
发热元件
Φ12*650硅碳棒
Φ12*750硅碳棒
真空度
66.6pa
66.6pa
66.6pa
66.6pa
66.6pa
冷态压升率
≦10～20pa/h
≦10～20pa/h
≦10～20pa/h
≦10～20pa/h
≦10～20pa/h
最大功率
12Kw
30kw
60kw
80kw
100kw
温控方式
可控硅模块自控
注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！
